본문 바로가기

삼성전기 논문대상

새로운 개념의 학술논문 대상. 삼성전기에서는 역량 있는 인재들의 연구활동을 후원합니다.

응모요강

응모대상

  • 논문접수 마감일 기준 국내외 대학(원)생 및 Post Doc으로 공학관련 순수 또는 응용기술논문 작성 가능자

    ※ 전공 및 편수 제한 없음, Post Doc의 경우 학교 소속인 자에 한함
    ※ 기업 및 연구기관 등에 재직 중인 학술연수자 또는 파트타임 대학원생은 응모대상에서 제외됨


  • 제출논문의 경우, 논문 본문 접수 마감일을 기준으로 국내외 공개 출판물(온라인 포함)에 발표되지 않은 논문

2018 응모분야 및 주제

분과 응모분야 세부주제
소재기술 무기재료 금속재료, 자성재료, 유전체 재료, 압전재료, 세라믹 재료, Glass 재료, 나노재료 等
유기재료 감광성 재료, 고분자 바인더, 절연재료, 광학재료, 합성, 약품류 等
복합재료 전극 Paste
Material
informatics
Data mining 등에 의한 신 재료 발굴 및 재료 합성
소자 및
공정기술
소자 MEMS Device(BAW Filter, SAW Filter, RF-Module),
mmWave, 통신 필터, PA 등 요소기술
공정 박층 성형(분급/분산/성형/적층/인쇄), 가공(절단, 소성), 박막 공정, 인쇄회로 기판 공정(도금, 회로, 가공, bumping 等), 표면처리(도금, 에칭, 세정, 노광/현상), PKG설계(구조), PKG공정(Advanced PKG, Wafer Level Package, Encapsulation, Wafer bonding, Interconnection, SMT, Die attach, Dicing 等), MEMS 공정
무선고주파

소프트웨어
RF Antenna, mmWave, 5G Antenna in Package, RF Front-End (PA, LNA, Switch, Filter 等), Wireless power transfer, Analog/Mixed-signal IC, MMIC, SoC for wireless applications
SW Algorithm, Image/signal processing, Computer vision, Pattern Recognition, Machine Learning, Artificial Intelligence, Real-time/Embedded Systems
기반기술 분석 나노 형태/성분 분석, 표면 및 계면 분석, 결정구조 분석, 재료물성 분석, 유기/무기 화학 정량 및 정성 분석, 고분자 특성분석, 미세유체/유변학 분석, 나노인덴터 등 국소영역 물성 평가, 미소변형/응력 측정, 레이저 분광/계측, Opto-Mechanics, mmWave 측정기술
신뢰성 마이크로 소자의 고장분석 및 신뢰성 향상기술, 비파괴분석, Fault Isolation
시뮬레이션 열/유체 해석, 구조/진동 해석, 전자장/RF/회로/EMI 해석, 광학/광소자 해석, Multi-Physics(도금해석, 부식반응 해석, 에칭해석, 화학반응 해석) 및 Multi-scale해석, 재료해석 및 분자 모델링
생산기술 설비기술 자동화/기구 설계, 기계제어
검사/측정 광학/전기 검사, 센서, 이상진단
공정 인쇄전자(R2R, 코팅/인쇄), 도금
생산시스템 AI, 청정기술, MES

2018 시상

시상
대상 1편 1000만원
금상 1편 500만원
은상 4편 300만원
동상 5편 100만원
특별상(최다논문제출랩) 300만원

※ 우수작품이 없을 경우, 해당부문 수상자가 없을 수도 있음

2018 운영일정

내용 일정
논문 초록 접수 '18.7.23(月) ~ '18.9.10(月)
9월 10일 24:00시까지 접수

초록심사 결과발표 '18.10.1(月)
논문 본문 접수 '18.10.1(月)~'18.10.15(月)
10월 15일 24:00시까지 접수

본문심사 결과발표 '18.10.29(月)
발표심사 '18.11.7(水)
최종 수상자 발표 '18.11.13(火)
시상식 '18.11.16(金)

※ 일정은 내부사정에 따라 변경 가능성 있음

문의처